近期，理学院物理系研究生刘毅（已于2014年毕业）和简玮同学以第一、二作者与导师王江涌教授，在Applied Physics Science上发表了题为Quantitative reconstruction of the GDOES sputter depth profile of a monomolecular layer structure of thiourea on copper的论文(vol. 331 p.140–149, 2015)。该论文由于“对工程、科学和工业研究做出了卓越贡献”而被Advanced in Engineering遴选为关键科学（key Scientific）论文，收录于Advanced in Engineering (见https://advanceseng.com/applied-physics/quantitative-reconstruction-of-the-gdoes-sputter-depth-profile-of-a-monomolecular-layer-structure-of-thiourea-on-copper/)。

该论文是与德国Max Planck Institute for Intelligent Systems S. Hofmann教授及日本Keio University K. Shimizu教授合作完成。利用拓展的MRI模型定量分析了铜基体上硫脲单分子层高分辨率的GDOES深度剖析谱，直接获得了硫脲分子的结构信息，同时首次确定了GDOES深度剖析技术的深度分辨率可以达到亚纳米级(0.5 nm)。